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CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設(shè)備，合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。CIF等離子清洗機(jī)F系列性能穩(wěn)定，操作簡(jiǎn)單方便，易維護(hù)。

CIF勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

CIF 透射電鏡（TEM）樣品桿清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程離子清洗源 設(shè)計(jì)，清洗快速高效， 低轟擊損傷， 同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。透射電鏡樣品桿清洗機(jī)主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。

紫外臭氧清洗機(jī)（UVOzone Cleaner, UVO），是一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，快速高效的材料表面清洗設(shè)備，能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）表面上的有機(jī)污染物。

CIF Flash-Evac系列閃蒸成膜儀基于“快速溶劑揮發(fā)誘導(dǎo)成膜”原理研發(fā)生產(chǎn)的*薄膜制備設(shè)備，通過(guò)真空環(huán)境加速溶劑蒸發(fā)，驅(qū)動(dòng)溶質(zhì)（如有機(jī)小分子、聚合物、金屬鹵化物等）快速自組裝形成均勻納米薄膜。設(shè)備具備智能控制、高效成膜與廣泛兼容等優(yōu)勢(shì)，廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、OLED、柔性電子與傳感等前沿領(lǐng)域。

CIF離子濺射儀是一款專為貴金屬及合金材料鍍膜研制的高精度設(shè)備，集*控制技術(shù)與人性化設(shè)計(jì)于一體，可實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)、高效且穩(wěn)定的濺射鍍膜工藝。廣泛適用于科研實(shí)驗(yàn)與精密制造領(lǐng)域，為用戶提供高質(zhì)量、一致性高的鍍膜效果。

等離子灰化儀又稱等離子有機(jī)質(zhì)去除儀用于煤與生物質(zhì)樣品的低溫灰化，SEM&TEM中有機(jī)樣品刻蝕，塑料品的表面處理以及有機(jī)材料的微觀灰化。

CIF 推出 RIE 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，采用 RIE 反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所，微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價(jià)比高，易維護(hù)，處理快速高效。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進(jìn)行 RIE 反應(yīng)離子刻蝕。