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英國Ossila小型狹縫涂布儀結(jié)構(gòu)緊湊，價格實惠，使用簡單，準確度高。 對于那些希望在小型實驗室中擴大實驗工藝的用戶來說，它是理想之選。與卷對卷和片對片沉積工藝相兼容，狹縫涂布是用于可擴展沉積薄膜的技術(shù)之一。其廣泛的加工窗口確保穩(wěn)定、無缺陷的沉積，適用于各種粘度的溶液。薄膜均勻度高，準確且可重復(fù)，厚度可通過改變流速和基材速度來控制。

英國Ossila公司勻膠旋涂儀，操作簡單，方便實用，旋涂均勻，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，為實驗室提供了理想的解決方案，其采用創(chuàng)新設(shè)計的非真空卡盤式旋涂吸盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果。勻膠旋涂儀可對大小不同規(guī)格的基材都可進行旋涂，尤其是對超薄樣品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到旋涂效果。不會出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象，影響涂層的均勻性。勻膠旋涂儀廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、制版、新能源、生物材料、光學(xué)及表面涂覆等工藝。

英國Ossila SpinProcessor，操作簡單，方便實用，旋涂均勻，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，為實驗室提供了理想的解決方案，其采用創(chuàng)新設(shè)計的非真空卡盤式旋涂吸盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果。可對大小不同規(guī)格的基材都可進行旋涂，尤其是對超薄樣品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到完美的旋涂效果。不會出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯

英國Ossila-Spin Coater操作簡單，方便實用，旋涂均勻，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，為實驗室提供了理想的解決方案，其采用創(chuàng)新設(shè)計的非真空卡盤式旋涂吸盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果。可對大小不同規(guī)格的基材都可進行旋涂，尤其是對超薄樣品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到較好的旋涂效果。不會出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象，影響涂層的均勻性。

UV Ozone Cleaner是一種簡單，經(jīng)濟，快速的材料表面清洗設(shè)備，只需把樣品放置到樣品盤上，關(guān)上艙門，設(shè)置時間，并按運行，就可以了，能快速去除大多數(shù)無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時，紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面，只需要在傳統(tǒng)清洗后，再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得！

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